中国科学院光电技术研究所的URE-2000S/34型为双面接近接触式光刻机，主要由均匀照明曝光系统、对准工件台系统、电控系统、气动控制系统及辅助配套设备构成。在URE-2000/34的基础上，增加了底面对准相机，实现正面底面双面套刻对准功能。
光源 | 350W、500W、1000 W汞灯或LED(根据用户需求配备) | |
曝光面积 | 110 mm×110 mm~200 mm×200 mm或根据用户需求定制 | |
照明不均匀性 | 2.5%(110 mm×110 mm);3.5%(150 mm×150 mm) | |
对准方式 | 底面对准(双面) 显微镜对准(单面) | |
套刻精度 | 单面±0.8μm, 双面±2.5 μm | |
分辨率 | 0.8 μm～1.2 μm | |
样片相对于掩模运动行程 | X:±5mm;Y:±5mm;θ:±6° | |
基片尺寸 | 50 mm～150 mm×150 mm或根据用户需求定制 | |
掩膜尺寸 | 2.5、3、4、5、6、7或根据用户需求定制 | |
最大胶厚 (SU8 胶 ) | 600 μm | |
曝光线条侧壁陡度 | ≥86° | |
l 采用专利技术-积木错位蝇眼透镜消衍射技术，曝光图形质量好，光刻分辩力高；
l 采用i线(365 nm)紫外曝光光源和先进的光学系统实现高均匀照明，光源聚光角小，平行性好；
l 采用专利技术一高精度快速自动调平机构、调焦机构实现自动基片调平、调焦，对大、小基片(含碎片)均具有高调平精度；
l 配置高倍率双目双视场显微镜和22英寸宽屏液晶显示器，既可通过目镜目视对准，也可通过CCD+显示器对准，对准精度高，过程直观、操作方便；D可数字设定对准间隙和曝光间隙，自动分离对准间隙和消除曝光间隙；D具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光、接近式曝光四种功能；D上、下基片采用抽拉式，操作方便；
l 具有纳米压印接口功能；
l 具有碎片处理功能；
l 整机自动化程度高，性能可靠、适用范围广；
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