中国科学院光电技术研究所的UVSTEP-50I01为紫外投影光刻机，可1:1曝光掩膜图案，批处理生产效率快。具有三点调平，离轴对准，调焦曝光等功能，支持硅片、芯体或其他产品的曝光，可满足用户的定制化需求。
光刻波段 | i-line(365 nm)@LED |
有效视场 | 50mmX50mm |
曝光强度 | ≥40mw/cm²@硅片面 |
照明均匀性 | ≤±3% |
分辨率 | 5μm |
倍率 | 1:1 |
对准精度 | ±1μm(标记对准模式)/5μm(样片轮廓对准式) |
基底类型 | 4~8 inch标准晶圆/用户定制（非标准基底） |
单次上盘样片数量 | 100片@方形载盘(φ7 mm) |
生产效率 | >900片/小时@φ7mm圆形金属基底（上线验证） |
l 自动完成样片盘中所有样片的轮廓对准、图层对准、检焦及曝光；
l 可适应各类定制化样片；
l 具有批处理效率高、自动化程度高、光刻质量高、曝光一致性好的特点。
l 可提供样片检测模块供用户选配，能自动完成样片缺陷检测及套刻精度检测，为用户精细化生产提供依据。
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