UVSTEP-220I02为紫外投影光刻机，掩膜面与硅片面为1:2放大关系，曝光有效视场大，批处理生产效率快。具有三点调平，调焦曝光等功能。
光刻波段 | i-line(365 nm)@汞灯 |
有效视场 | 220mmX110mm |
曝光强度 | ≥70mw/cm²@硅片面 |
照明均匀性 | ≤±3% |
分辨率 | 10μm |
倍率 | 1:2 |
对准精度 | ±1μm |
基底类型 | 8 inch标准晶圆/用户定制（或矩形基底） |
工作模式 | 自动输片/上版 |
l 与传统接近/接触式相比，掩模版无损伤、成本低；
l 曝光图形质量与全盘一致性高，有效提高产率及良率；
l 自动化程度高，操作简单；
l 采用人性化操作界面，提高人机交互体验。
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