DS-2000为无掩膜直写光刻机，在电脑中载入曝光图形可直接曝光得到曝光图案，可用于掩膜版的制备。支持整场调平与选场调焦曝光。
参数名称 | 数值以及说明 | 单位 | |
曝光光源 | 紫外LED(进口) | ||
曝光谱线(i线) | 365 | nm | |
照明不均匀性 | ±2% | ||
曝光直写速度 | 40 | mm²/min | |
光刻分辨力 | ≤1 | μm | |
CCD检焦、检测精度 | 2 | μm | |
工作台运动定位精度 | ±0.5 | μm | |
调焦台运动灵敏度 | 1 | μm | |
工作台运动范围 | X:150 Y:150 | mm | |
对准精度 | ±2 | μm | |
调焦台运动行程 | 6 | mm | |
转动台行程 | ±6以上 | o | |
基片尺寸 | 外径 | φ1-φ100 | mm |
厚度 | 0.1-5 | mm | |
l 采用DMD作为数字掩模，1024×768或1920×1080或2560×1600;
l 采用1μm分辨力投影光刻物镜成像，曝光直写速度：40 mm²/min;
l 采用专利技术-积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明；
l 采用进口精密光栅、电机、导轨、丝杠实现精确工件定位和曝光拼接；
l 采用CCD检焦系统实现整场调平、自动逐场调焦或自动选场调焦曝光；
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