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产品模型

直写光刻机-曲面直写 URE-2000/ZX20

URE-2000/ZX20为曲面直写光刻机,可将三维曲面保形电子的制备步骤,简化为一步激光直写,让保形电子与球碗曲面实现完全贴合。

技术指标

 

光源

405nm±10nm

线宽分辨率

10-50um

线宽均匀性

±2umum

球碗半径

R30mm-R150mm(可定制)

检焦精度

1um

旋转角度

x±65°,y±65°

直写速率

720min(角度±65°球碗)

 

产品特点

l  可将三维曲面保形电子的制备步骤,简化为一步激光直写,让保形电子与复杂曲面实现完全贴合;

l  具有实时检焦功能,保证曝光过程中激光能量的均匀性;

l  采用多轴联动控制技术,实现曲面样片的经纬分割式曝光;

l  步骤精简、无需掩模、且贴合精度高。


 


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曲面直写 URE-2000/ZX20

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URE-2000/ZX20为曲面直写光刻机,可将三维曲面保形电子的制备步骤,简化为一步激光直写,让保形电子与球碗曲面实现完全贴合。

曲面直写 URE-2000/ZX20
产品介绍

URE-2000/ZX20为曲面直写光刻机,可将三维曲面保形电子的制备步骤,简化为一步激光直写,让保形电子与球碗曲面实现完全贴合。

规格参数

 

光源

405nm±10nm

线宽分辨率

10-50um

线宽均匀性

±2umum

球碗半径

R30mm-R150mm(可定制)

检焦精度

1um

旋转角度

x±65°,y±65°

直写速率

720min(角度±65°球碗)

 

产品特点

l  可将三维曲面保形电子的制备步骤,简化为一步激光直写,让保形电子与复杂曲面实现完全贴合;

l  具有实时检焦功能,保证曝光过程中激光能量的均匀性;

l  采用多轴联动控制技术,实现曲面样片的经纬分割式曝光;

l  步骤精简、无需掩模、且贴合精度高。