中国科学院光电技术研究所的UVSTEP-15I05为紫外投影光刻机，可在不同尺寸样片上曝光0.7um分辨率的线条，支持机械手全自动传输片，具有三点调平，同轴对准，调焦曝光等功能，可保证高精度曝光线条。
光刻波段 | i-line(365 nm)@汞灯 |
有效视场 | 15 mm×15 mm~22 mm×22 mm |
曝光强度 | ≥600mw/cm²@硅片面 |
照明均匀性 | ≤±3% |
分辨率 | 0.7μm |
倍率 | -1:5 |
对准精度 | 优于±350 nm |
基底类型 | 4~8 inch标准晶圆/用户定制（非标准基底） |
综合产率 | 45片/小时@6inch |
上片模式 | 自动输片 |
上版模式 | 手动/自动 |
性能监测模块 | 光刻性能在线测控系统(选配) |
l 采用模块化设计，结构紧凑、性价比高；
l 具有自动上下片，自动对准，自动检焦，步进投影曝光、高精度图层套刻等功能；
l 适用于不同类型的亚微米光刻工艺，可定制能力强、性价比高。
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