URE-2000/45ALD型为接近接触式半自动光刻机，在原有URE-2000/34型的基础上，增加了膜厚测量功能，膜厚测量仪和曝光单元由同一软件控制。客户在匀胶后可以自行测量膜厚及均匀性，集成一体的形式免除样片在异地工件台间搬运造成的损伤。
参数名称 | 数值以及说明 |
曝光面积 | 160mm*160mm |
曝光波长 | 365nm |
光刻分辨力 | 0.8um |
照明不均匀性 | ≤2.5%(φ150mm范围) |
光源类型 | 进口LED |
曝光能量密度 | ＞30mW/cm²可调 |
曝光量设定 | 倒计时定时方式，0.1s-999.9s任意设定 |
曝光间隙设定 | 数值设定曝光间隙，自动分离和消除间隙 |
双目物镜可调距离范围 | 15mm-120mm |
膜厚测量 | 可测量透明或半透明材料的厚度 |
光强检测 | 可在线实时检测 |
图像处理 | 具备测量线宽及保存图像功能 |
l 操作简洁，功能一键化；
l 接入膜厚测量模块，可半自动操作膜厚测量仪
l 适应4、6、8寸硅片，碎片等不同产品。
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