一、 主要技术特征

采用10倍缩小投影光刻物镜成像，一次曝光面积约10mm×10mm 采用积木错位蝇眼透镜实现均明。

采用进口精密光栅、进口电机、进口导轨、进口丝杠实现精确工件定位和曝光拼接，可适应2英寸、3英寸、4英寸、6英寸基片。

采用CCD检焦系统实现整场调平、自动逐场调焦或自动选场调焦曝光。

具备对准和套刻功能

二、 主要技术指标

曝光波长：365nm

光刻分辨力：0.8-1μm

基片尺寸：2英寸、3英寸、4英寸、6英寸

掩模尺寸：4英寸、5英寸

曝光场面积：10mm×10mm

工件台运动范围：X：150mm、 Y：150mm；

工件台运动定位精度：±0.65μm；

套刻精度：1μm

物镜倍率：1：10

三、主要技术配置

1. 照明系统

冷光椭球镜

1000W进口直流高压汞灯(德国欧司朗)

XYZ汞灯调节台

光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜1、准直镜镜2、蝇眼透镜组（100个透镜）、i线滤光片、场镜1、场镜2、冷光反射镜1、反射镜2

冷却风扇

2. 投影物镜

物方视场：100mm×100mm

缩小倍率：1：10

数值孔径：0.3

波长：365nm

3.工件台

X台：电机驱动器（日本乐孜）、丝杠（日本NSK）、导轨2（日本THK）、光栅（美国）

Y台：电机及驱动器（日本乐孜）、丝杠（日本NSK）、导轨2（日本THK）、光栅2（美国） 转动台：电机及驱动器（日本乐孜），转动轴系

Z台：电机及驱动器（日本乐孜）、丝杠、上升导向机构

承片台：2英寸、3英寸、4英寸、6英寸等

4、检焦系统

焦面光学检测系统、CCD、焦面检测软件

5、对准系统

对准光学检测系统、CCD、对准软件

6、电控系统

汞灯电源及触发器、主机控制系统、软件、计算机、监视器（19英寸液晶）、接口

7、整机框架系统

花岗岩平台、被动减震器（4个）、外罩、主基板、投影物镜支撑系统、照明基板，花岗岩基座、立柱（7个）。

8、气动系统

电磁阀、旋转气缸、减压阀、压力表、真空表

9、其它附件

无油真空泵 静音空压机

10、技术资料：

操作说明书，维修手册

四、使用条件

要求的站地面积：3m×2m

供电要求：交流220V，8A

洁净度：最好优于10000级

五、外形尺寸

1700mm×760mm×1750mm(长×宽×高)

六、交货周期

5个月