DS-2000/14K型光刻机技术特征简介

该机器的主要优势在于:

1.操作：十分方便

（1）除上下基片以外，其余操作均可在计算机上操作。

（2）软件界面友好易用，可对当前曝光区域、待曝光区域、曝光参数等信息进行实时的图形化显示。

（3）兼容GDSII、DWG等主流矢量图形文件，标配提供的图形处理软件可以曝光图形的生成、修改以及转换等工作。

（4）高精度对准系统可适应不同大小的曝光基片、甚至碎片，对准过程均在对准程序的辅助下完成。选配的背面对准系统，还可将该机型升级为具有双面对准曝光的数字无掩模光刻机。

（5）自动焦面检测系统主动反馈当前焦面位置并于工件台实现闭环控制，只需设置好焦面位置，在曝光过程中设备会自动完成焦面调整。

2.性能：非常优越

（1）采用专利技术—积木错位蝇眼透镜进行匀光，照明均匀性优于±2%；

（2）基于中国科学院光电技术研究所二十多年来在光刻物镜的设计、加工、制造和检测中的技术沉淀，已开发出了一系列不同倍率和分辨力的投影光刻物镜可供客户选择，标准配置的投影物镜倍率为14X，分辨力为1μm，单次曝光视场约1×0.75μm；

（3）光源质量好—保证曝光图形方、陡、直。通过最佳光学设计、光学镀膜，曝光成分为纯净的365nm，红外和可见成分被彻底过滤，保证曝光面为冷光（在环境温度为22度，曝光面温度不超过30度），肉眼观察为暗蓝紫光，紫外探测能量很高；

（4）汞灯触发容易，更换方便：由于采用的是高性能欧司朗350W高压球形汞灯、且电源性能好所以点灯容易；因为采用积木错位蝇眼透镜，均匀性和消衍射效果不受灯位置限制；

（5）选用TI原厂数字微镜阵列，标准配置的微镜数量为1024×768；

（6）精密工件台采用H型导轨排布形式，最大限度的增加了工件台运动的稳定性；先进的装调手段和检测仪器确保工件台的运动直线性和正交性；进口精密光栅测量系统与自行研制的闭环运动控制系统可以保证工件台在100×100mm行程范围以内的重复定位精度优于0.65μm，复合精密轴系组成的升降和旋转台分别可实现6mm的升降行程和±6°得旋转行程。

（7）具备正面对准功能，能实现正面和背面图形的套刻，优异的数字图像处理算法以及对准算法使其实现套刻曝光精度优于±2μm；通过选配背面对准模块，还可以实现双面对准曝光；

（8）自行研制的开发的自动焦面检测与闭环控制系统可以使得焦面调节精度优于1μm；

（9）关键器件均采用了最好的进口器件，如气动元件主要采用日本SMC，汞灯采用德国欧斯朗，导轨、丝杆采用日本THK，电机及驱动器采用日本三洋，光栅尺采用美国Micro E，最大限度的提高了设备的稳定性和可靠性。

（10）可适应的样片范围可达?10-?100mm(甚至?10mm—150mmX150mm)的各种规则和不规则片,厚度可适应0.1mm—6mm；

（11）工艺兼容性好，该无掩模数字光刻机的光刻工艺与传统的i线光刻（接近接触或投影光刻）工艺条件完全一致；

（12）友好简洁的图形化操作界面，操作人员只需简单培训即可独立完成光刻曝光操作。

3.服务：优质

（1） 保修，一年的保修期，一切费用由我方负责（汞灯除外）。并负责长期维修，只收材料成本和旅差费。

（2） 提供真空系统，气源系统，用户只需提供场地和电源。 真空泵采用干泵，压缩机采用无油泵。

（3） 负责运输到用户使用场地，并负责安装、调试、使用指导。