2024年中国科学院光电技术研究所于西安某研究院，建立并通过验收国内首条全自动光刻系统产线，解决某压力敏传感器制造全流程国产化、自主化的问题。该自动化产线主要包含全自动喷胶机、UVSTEP型步进投影光刻机、湿法系统、自动传输系统及自动上下样品系统，主要技术指标如下：
| 模块 | 项目 | 参数 |
| 全自动喷胶机 | 胶膜厚度均匀性 | ≥95% |
| 胶膜最大厚度 | ≥5um | |
| UVSTEP型步进投影光刻机 | 线宽 | ≤15um |
| 套刻精度 | ≤5um | |
| 光刻精度 | ≤1um | |
| 自动上下样品系统 | 重复定位 | ≤±0.02mm |
| 旋转角度 | ≤±2° |
通过为期六个月调试过程，经客户生产验证，全自动光刻系统产线曝光良率远超90%，光刻线宽一致性达99%，能够满足120片/h生产要求，证明该条产线在特种传感芯片制造方面具有优越性，解决了国内特种传感芯片制造难题。此外，全自动光刻系统产线不仅适用于压力敏传感器制造，也兼顾压阻式压力传感器、热敏电阻、光敏电阻等特殊器件生产。
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