该产品是一款高精度膜厚仪，在完成明暗场标定后，即可测量出产品膜厚，适应多种测量材质，操作简单，测量精度高。
测量范围 | 50 nm—1000 μm |
测量重复性*1(RMS) | 0.086 nm |
测量绝对精度*2(与椭偏仪对比) | 0.25 nm |
使用光源 | 卤素灯 |
入射角度 | 90° |
测试材料 | 透明或半透明薄膜材料 |
光斑尺寸 | 20 μm—3 mm(可选) |
测量时间 | 100 ms—4 ms |
通信接口 | USB2.0 |
l 采用光谱干涉原理进行 测量，具有非接触、无破坏、快速等特点；
l 可在真空环境使用；
l 可与大行程工件台配合，实现大面积膜厚自动测量。